Atomfab ist das schnellste ALD-System für die Remote-Plasmaproduktion auf dem Markt.
LÖSUNGEN FÜR IHRE PRODUKTIONSANFORDERUNGEN
Wettbewerbsfähige CoO
Schnelle, einfache Wartung
Ausgezeichnete Gleichmäßigkeit des Films
Hohe Materialqualität
Geringe Beschädigung des Substrats
Schnellere Zykluszeiten, hoher Durchsatz
Clusterfähige und automatisierte Waferhandhabung
PERFORMANCE
Die ALD-Technologie von Atomfab bietet präzise kontrollierte ultradünne Schichten für fortschrittliche Anwendungen im Nanometerbereich mit konformer Beschichtung von empfindlichen Substratstrukturen.
PROZESSVORTEILE FÜR DIE PASSIVIERUNG VON LEISTUNGS- UND HOCHFREQUENZGERÄTEN
Garantierte Prozesseinstellung durch unsere Ingenieure
Lebenslanger Prozess-Support für zusätzliche/neue Prozesse
Beschädigungsarme Plasmabearbeitung
Hochwertige Abscheidung mit geringer Schichtkontamination
Niedriges Partikelniveau
Kurze Plasmabelichtungszeiten für hohen Durchsatz
Plasma-Oberflächenvorbehandlungen
VORTEILE DER PLASMA ALD FÜR GaN-, POWER- & RF-BEHÖRDE
Mit Plasmavorbehandlung vor der Abscheidung zur Verbesserung der Oberflächenqualität
Geringe Beschädigung, gleichmäßige Abscheidung
Remote-Plasma-ALD mit kontrollierter Ionenenergie von nahezu Null bis 30 eV
ALD-Passivierung, Gate-Dielektrikum durch Al2O3-Schichten.
GLOBALE KUNDENBETREUUNG
Oxford Instruments ist bestrebt, einen umfassenden, flexiblen und zuverlässigen globalen Kundensupport zu bieten. Wir bieten einen hervorragenden Qualitätsservice während der gesamten Lebensdauer Ihres Systems.
Die Ferndiagnose-Software ermöglicht eine schnelle und einfache Fehlerdiagnose und -behebung
Supportverträge sind je nach Budget und Situation erhältlich
Globale Ersatzteillager an strategischen Standorten für eine schnelle Reaktion
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