Hohe Ausbeuten von mehr als 100 µg aus 2 ml Speichel
Hohe Reinheit für die anspruchsvollsten Anwendungen
Vollständig für die Verwendung mit Speichel optimiert
Schnelle Verarbeitungszeiten & reduzierte Verarbeitungsschritte
Keine Lösungsmittel, Säulen oder Filtrationen erforderlich
Hochdurchsatzprotokoll für DeepWell-Platten
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