Das Hitachi Ethos FIB-SEM ist ein FE-SEM der neuesten Generation mit hervorragender Strahlhelligkeit und Stabilität. Ethos liefert hochauflösende Bilder bei niedrigen Spannungen in Kombination mit Ionenoptik für die Präzisionsbearbeitung im Nanobereich.
Hauptmerkmale
1. Leistungsstarke FE-SEM-Säule mit Dual Lens Mode
Ultrahochauflösende Beobachtung (HR-Modus: semi-in-lens)
Hochpräzise Endpunkterkennung in Echtzeit (FF-Modus: Feldfrei (Time-Sharing-Modus))
2. Materialverarbeitung mit hohem Durchsatz
Ultraschnelle Bearbeitung mit hoher Ionenstromdichte (Max. Strahlstrom: 100 nA)
Benutzerprogrammierbares Skript für automatische Verarbeitung und Beobachtung
3. Mikro-Probenahme-System
Vollständig integrierte Probenausrichtungssteuerung für Anti-Curtaining-Effekt (ACE-Technologie)
TEM-Probenpräparation für gleichmäßige Lamellen in jeder Orientierung
4. Triple-Beam-fähig, liefert Ergebnisse von höchster Qualität
Edelgas-Ionenstrahl-Materialbearbeitung mit niedriger Beschleunigung
Innovative Funktionen reduzieren ga-ionenbedingte und andere Fräsartefakte
5. Große Multi-Port-Kammer und Tisch für verschiedene Anwendungen
System für große Probengrößen mit außergewöhnlicher Tischstabilität
Verbesserte Langstreckennachführung über den gesamten Bereich (155 x 155 mm)
Verfeinerte Elektronenoptik und Multi-Signal-Detektion
Die Ethos SEM-Säule besteht aus einem Verbundobjektivsystem mit magnetischem und elektrostatischem Feld, das in zwei Linsenmodi konfiguriert ist.
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