Infrarotspektrometer IconIR300™

AFMInspektionfür die Nanotechnik

300 mm längerer Probenzugang für Halbleiter-F&E, Fehleranalyse und Identifizierung von Nanokontaminanten Das Dimension IconIR300™ nanoIR-System für große Proben bietet eine schnelle, hochpräzise Charakterisierung im Nanobereich für Halbleiteranwendungen und zeichnet sich durch unübertroffene Fähigkeiten, Probengröße und Materialflexibilität aus. Durch die Kombination von firmeneigener photothermischer IR-Spektroskopie und AFM-Eigenschaftskartierung im Nanobereich ermöglicht das IconIR300 eine automatisierte Waferinspektion und Defektidentifizierung an einer Vielzahl von Wafer- und Fotomaskenproben. Das System erweitert die Anwendung der AFM-IR-Technologie auf Segmente der Halbleiterindustrie, die mit herkömmlichen Techniken nicht erreicht werden können, erheblich. Das IconIR300 basiert auf der bahnbrechenden Architektur des Dimension IconIR-Systems für große Proben und bietet korrelative Mikroskopie und chemische Bildgebung sowie eine verbesserte Auflösung und Empfindlichkeit. Integriert in ein automatisiertes Wafer-Handling und eine fortschrittliche Software zur Datenerfassung und -analyse ermöglicht das System größere Zeit- und Kosteneinsparungen sowie eine effizientere Produktion. Ganzer Wafer charakterisierung von chemischen und Materialeigenschaften im Nanobereich Kombiniert IR-Spektroskopie und AFM-Eigenschaftskartierung für hochpräzise, zerstörungsfreie Messungen von 200 mm und 300 mm Wafern. Unzweideutig identifizierung von organischen/anorganischen Nano-Verunreinigungen Verbessert die Qualität von Halbleiterwafern und Fotomasken durch photothermische AFM-IR-Daten, die direkt mit FTIR-Bibliotheken korrelieren. Automatisiert rezeptbasierte Messungen Benutzerfreundlicher Zugang zu umfassenden Daten und Unterstützung von KLARF-Dateien. Das bietet nur das Dimension IconIR300 System: